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Schleudertrockner Kamera-Modul-Spray-Reinigungs-Maschinen-Halbleiter-Reinigungsmaschine

Schleudertrockner Kamera-Modul-Spray-Reinigungs-Maschinen-Halbleiter-Reinigungsmaschine

Zentrifugaler Halbleiter-Reinigungsmaschine

CMC-Halbleiter-Reinigungs-Maschine

Zentrifugale CMC-Sprayreinigungsmaschine

Herkunftsort:

Dongguan, China

Markenname:

SHENHUA

Zertifizierung:

CE,UL

Modellnummer:

CMC-800

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Bitte um ein Angebot
Einzelheiten zum Produkt
Reinigungsmethode:
Double-Fluid-DI-Wassersprühwäsche
Trockene Methode:
Zentrifugal trocken
Reinigungsplatte:
Ø < 550 mm
DI-Wasserversorgung:
>17 MΩ(Durchflussrate>7 U/min)
Reinigungsdruck:
3~8kg/cm2
Luftfilter:
1 um x 1 Stück; 0,01 um x 1 Stk
Maschinengröße:
L800*B960*H1800
Maschinengewicht:
450kg
Hervorheben:

Zentrifugaler Halbleiter-Reinigungsmaschine

,

CMC-Halbleiter-Reinigungs-Maschine

,

Zentrifugale CMC-Sprayreinigungsmaschine

Zahlungs- und Versandbedingungen
Min Bestellmenge
1 Satz
Preis
negotiable
Verpackung Informationen
Fallpaket des Vakuum +plywood, Fallgröße: 1100*1300*2250 Millimeter (L*W*H)
Lieferzeit
30~40 Tage
Zahlungsbedingungen
L/C, T/T, D/P, Western Union, Paypal, Geld-Gramm
Versorgungsmaterial-Fähigkeit
300sets pro Jahr
Beschreibung des Produkts

Produktbeschreibung

CMC-800sus304 edelstahl material di wasser handy kameramodul doppelflüssigkeit spray scan reinigung czentrifugal trocken Maschinewird hauptsächlich zum Reinigen von Mikrostäuben auf Kameramodulprodukten wie: Wafer, CMOS, Halter usw. verwendet.Durch die Verwendung unserer DI-Wasser-Scan-Sprühreinigungstechnologie wäscht der CMC-800 sehr wenig Mikrostaub aus und durch die Verwendung der Zentrifugal-Trockentechnologie mit 1000 U / min kann der CMC-800 Produkte schnell trocknen.


Maschinenmerkmale:
1. Speziell entwickelt, um Staub auf Kameramodulprodukten zu entfernen.
2. Spiegel-Edelstahlstruktur, geeignet für Reinräume.
3. Die saubere Platte wird speziell nach Produkten hergestellt, die saubere Platte kann entsprechend den Reinigungsanforderungen der verschiedenen Produkte geändert werden.
4. SPS-Steuerung, einfache Bedienung.
5. Transparente explosionsgeschützte Haustür, sicherer Betrieb, bequem für die Beobachtung.
6. Alle Maschinen werden nach Metern angezeigt.Der Reinigungsstatus wird derzeit überwacht.
7. 2 Strahl sauber, hohe Reinigungspräzision, keine Beschädigung der Produkte, sehr geringer DI-Wasserverbrauch.
8. Sprühgestänge drehen, keine Sekundärverschmutzung.
9. Ausgestattet mit einem statischen Eliminator und einem Reinigungsraum-Wärmegerät, um das beste Reinigungsergebnis zu erzielen.
10. Ausgestattet mit einem 2-stufigen Luftfiltersystem erfüllt Druckluft die Norm ISO8573.1.
11. Kompakte Maschine, weniger Flächenverbrauch.
12. Verwenden Sie reines DI-Wasser, entsprechen Sie dem RoHs-Standard.


Maschinenspezifikation:

Reinigungsplatte Sonderanfertigung (Reinigungsplattendurchmesser <550 mm)
Saubere Methode 2 Ströme sauber
Trockene Methode Hochgeschwindigkeitszentrifugal trocken
Stromversorgung AC380V 50HZ
Leistung 7KW
Energieverbrauch Reinigungsleistung: 3,5 kW/h Standby-Leistung: 1 kW/h
Leistung drehen 3 PS
Umgebungsfiltrationsmethode 0,3 μm;99,999 %
Methode der Luftfiltration 1 μm × 1; 0,01 μm × 1
Zentrifugaldrehzahl 100-1500 U/min
Sauberer Druck Wasserdruck: 3–8 kgf/cm² Luftdruck: 0,2–0,5 MPa
DI-Wasserversorgung Durchflussrate:>7LPM Widerstand:>17MΩ
Luftverbrauch Druck: 0,45–0,7 MPa; Durchflussrate: > 30 m³/H (gute Sauberkeit)
DI-Wasser Einlassdurchmesser ø12mm weicher Schlauch oder PT1/2″ Innengewinde
Durchmesser der Luftzufuhr ø12mm Schlauch
Durchmesser des Wasseraustritts PT 1″weibliches Gelenk
Luftaustrittsdurchmesser 4″×2 (Luftpumpengerät erforderlich, Luftgeschwindigkeit über 3 m/s)
Maschinengröße 880 mm (L) × 960 mm (B) × 1880 mm (H)
Maschinengewicht 450 kg

 
Maschinenbild:

 

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